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新 毅 东 （ 北 京 ） 科 技 有 限 公 司 首 页 产 品 中 心 光 刻 设 备 涂 胶 显 影 设 备 高 端 客 制 化 湿 法 设 备 备 品 备 件 技 术 服 务 翻 新 服 务 改 造 服 务 光 刻 镜 头 服 务 移 机 服 务 资 料 下 载 新 闻 动 态 企 业 风 采 行 业 新 闻 学 习 专 栏 关 于 新 毅 东 公 司 简 介 企 业 文 化 发 展 历 程 招 贤 纳 士 社 会 招 聘 校 园 招 聘 联 系 我 们 联 系 方 式 在 线 反 馈 产 品 中 心 光 刻 设 备 涂 胶 显 影 设 备 高 端 客 制 化 湿 法 设 备 备 品 备 件 技 术 服 务 翻 新 服 务 改 造 服 务 光 刻 镜 头 服 务 移 机 服 务 资 料 下 载 新 闻 动 态 企 业 风 采 行 业 新 闻 学 习 专 栏 关 于 新 毅 东 公 司 简 介 企 业 文 化 发 展 历 程 招 贤 纳 士 校 园 招 聘 社 会 招 聘 联 系 我 们 联 系 方 式 在 线 反 馈 语 言 E N C N 专 业 半 导 体 装 备 整 体 方 案 解 决 商 P R O F E S S I O N A L S E M I C O N D U C T O R E Q U I P M E N T O V E R A L L S O L U T I O N P R O V I D E R 了 解 更 多 专 业 半 导 体 装 备 整 体 方 案 解 决 商 P R O F E S S I O N A L S E M I C O N D U C T O R E Q U I P M E N T O V E R A L L S O L U T I O N P R O V I D E R 了 解 更 多 专 业 半 导 体 装 备 整 体 方 案 解 决 商 P R O F E S S I O N A L S E M I C O N D U C T O R E Q U I P M E N T O V E R A L L S O L U T I O N P R O V I D E R 了 解 更 多 产 品 中 心 P r o d u c t C e n t e r 光 刻 设 备 涂 胶 显 影 设 备 高 端 客 制 化 湿 法 设 备 备 品 备 件 N i k o n N S R G 线 光 刻 机 N i k o n N S R G 线 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 4 3 6 n m 分 辨 率 优 于 0 . 6 5 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 1 7 5 5 / 1 5 0 5 i 7 A / B N i k o n N S R 1 7 5 5 / 1 5 0 5 i 7 A / B 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 6 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 2 0 0 5 i 8 A N i k o n N S R 2 0 0 5 i 8 A 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 5 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 2 0 0 5 i 9 C N i k o n N S R 2 0 0 5 i 9 C 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 4 5 µ m 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 2 0 0 5 i 1 0 C N i k o n N S R 2 0 0 5 i 1 0 C 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 4 5 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 1 D N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 1 D 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 4 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 2 D N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 2 D 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 4 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 4 E N i k o n N S R 2 2 0 5 i 1 4 E 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 3 5 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S F 1 2 0 / 1 3 0 N i k o n S F 1 2 0 / 1 3 0 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 3 6 5 n m 分 辨 率 优 于 0 . 2 8 µ m 主 要 用 于 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n E X 1 2 B N i k o n E X 1 2 B 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 3 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n E X 1 4 C N i k o n E X 1 4 C 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 2 5 µ m 主 要 用 于 2 寸 、 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 2 0 3 B N i k o n S 2 0 3 B 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 2 µ m 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 2 0 4 B N i k o n S 2 0 4 B 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 8 µ m 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 及 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 2 0 5 C N i k o n S 2 0 5 C 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 5 µ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 2 0 6 D N i k o n S 2 0 6 D 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 2 µ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 2 0 7 D N i k o n S 2 0 7 D 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 1 µ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 2 0 8 D N i k o n S 2 0 8 D 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 1 µ m 主 要 用 于 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 N i k o n S 3 0 8 F N i k o n S 3 0 8 F 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 1 9 3 n m 分 辨 率 优 于 0 . 0 7 µ m 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 C a n o n F P A 3 0 0 0 E X 4 C a n o n F P A 3 0 0 0 E X 4 步 进 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 2 5 µ m 主 要 用 于 主 要 用 于 4 寸 、 6 寸 、 8 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 3 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 3 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 8 µ m 主 要 用 于 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 4 C a n o n F P A 5 0 0 0 E S 4 扫 描 式 光 刻 机 光 源 波 长 2 4 8 n m 分 辨 率 优 于 0 . 1 3 µ m 用 于 6 寸 、 8 寸 及 1 2 寸 生 产 线 广 泛 应 用 于 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 、 L E D 等 领 域 B N E T C 2 0 0 0 公 司 自 主 研 发 涂 胶 显 影 设 备 T C 2 0 0 0 ， 适 用 于 多 种 材 料 涂 覆 显 影 工 艺 的 高 端 机 台 ， 支 持 与 光 刻 机 联 机 作 业 该 设 备 占 地 面 积 小 、 可 靠 性 高 、 易 于 维 护 ， 满 足 各 种 功 能 芯 片 制 程 需 求 可 广 泛 用 于 8 寸 以 下 半 导 体 、 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 及 L E D 等 领 域 B N E S W S 2 0 0 0 公 司 自 主 研 发 单 芯 片 设 备 S W S 2 0 0 0 可 用 于 2 / 4 / 6 / 8 i n c h （ 厚 度 3 0 0 ~ 1 5 0 0 μ m ， 翘 曲 度 采 用 2 / 4 共 享 ， 4 / 6 共 享 ， 6 / 8 共 享 c h u c k ， 可 更 换 槽 式 清 洗 设 备 X W 3 0 0 0 系 列 公 司 自 主 研 发 、 设 计 、 制 造 槽 式 清 洗 设 备 X W 3 0 0 0 系 列 可 用 于 R C A 清 洗 ， 湿 法 去 胶 ， 介 质 层 湿 法 刻 蚀 ， 金 属 层 湿 法 刻 蚀 ， 炉 管 前 清 洗 以 及 其 它 特 殊 工 艺 清 洗 需 求 设 备 采 用 模 块 化 设 计 ， 可 依 照 客 户 不 同 化 学 药 液 及 工 艺 需 求 定 制 化 设 计 单 片 蚀 刻 清 洗 设 备 X S 5 0 0 0 系 列 公 司 自 主 研 发 、 设 计 、 制 造 单 片 式 清 洗 设 备 X S 5 0 0 0 系 列 消 耗 品 N i k o n 、 C a n o n 、 T E L 设 备 各 类 备 品 备 件 供 应 工 厂 设 有 3 0 0 ㎡ 的 备 品 备 件 仓 库 ， 保 障 备 品 备 件 的 及 时 供 应 国 产 替 代 及 加 工 件 类 各 种 A R M 、 c h u c k 、 p r e 2 等 加 工 件 二 手 备 件 类 控 制 基 板 、 马 达 、 控 制 器 、 电 源 等 新 品 备 件 类 镜 头 、 马 达 、 硬 盘 、 主 机 等 技 术 服 务 T e c h n o l o g y S e r v i c e s 0 1 翻 新 服 务 翻 新 服 务 B N E 提 供 光 刻 机 专 业 翻 新 服 务 ， 经 过 严 格 检 测 、 精 密 维 修 及 性 能 升 级 ， 确 保 翻 新 设 备 达 到 卓 越 作 业 水 平 ， 以 经 济 高 效 的 方 式 为 半 导 体 制 造 商 赋 能 。 . 0 2 改 造 服 务 改 造 服 务 根 据 产 品 工 艺 和 衬 底 材 质 需 求 ， 精 准 改 造 W L 、 R L 单 元 及 O F 寻 边 、 S t a g e 等 关 键 部 分 ， 满 足 生 产 所 需 。 . 0 3 光 刻 镜 头 服 务 光 刻 镜 头 服 务 专 业 维 护 光 刻 设 备 照 明 系 与 成 像 系 镜 头 ， 服 务 内 容 涵 盖 清 洁 、 调 整 、 镜 片 更 换 及 拆 装 ， 确 保 镜 头 性 能 稳 定 、 成 像 清 晰 ， 保 证 生 产 精 度 。 . 0 4 移 机 服 务 移 机 服 务 移 机 团 队 经 验 丰 富 ， 工 具 专 业 ， 流 程 完 善 ， 确 保 设 备 安 全 移 动 。 . 关 于 新 毅 东 A b o u t U s 新 毅 东 （ 北 京 ） 科 技 有 限 公 司 （ 以 下 简 称 “ B N E ” ） 成 立 于 2 0 1 4 年 3 月 ， 是 一 家 从 事 半 导 体 生 产 线 设 备 业 务 的 高 新 技 术 企 业 。 B N E 核 心 业 务 围 绕 黄 光 设 备 的 技 术 服 务 与 自 主 研 发 ， 同 时 积 极 引 入 海 外 先 进 产 品 技 术 ， 并 致 力 于 关 键 国 产 化 替 代 ， 为 集 成 电 路 、 化 合 物 半 导 体 、 M E M S 以 及 L E D 等 领 域 的 客 户 提 供 设 备 制 程 整 合 与 个 性 化 解 决 方 案 。 B N E 与 中 芯 国 际 等 行 业 领 头 羊 建 立 稳 固 合 作 关 系 ， 积 累 了 丰 富 的 技 术 经 验 ， 拥 有 一 支 高 素 质 技 术 团 队 。 为 强 化 服 务 能 力 与 技 术 创 新 ， B N E 在 北 京 、 上 . . . 了 解 更 多 1 0 + 专 注 领 域 1 0 余 年 2 0 0 + 服 务 客 户 公 司 4 0 0 + 员 工 人 数 2 4 0 0 0 + 厂 房 面 积 新 闻 动 态 N e w C e n t e r 了 解 更 多 2 0 2 4 1 0 3 0 新 毅 东 科 技 ： 纳 米 技 术 产 业 的 浪 潮 之 上 ， 见 证 科 技 的 发 展 2 0 2 4 0 9 2 9 新 毅 东 科 技 ： 在 无 锡 半 导 体 展 上 ， 我 们 与 时 代 共 闪 耀 产 品 中 心 光 刻 设 备 涂 胶 显 影 设 备 高 端 客 制 化 湿 法 设 备 备 品 备 件 技 术 服 务 翻 新 服 务 改 造 服 务 光 刻 镜 头 服 务 移 机 服 务 新 闻 动 态 企 业 风 采 行 业 新 闻 学 习 专 栏 关 于 新 毅 东 公 司 简 介 企 业 文 化 发 展 历 程 招 贤 纳 士 社 会 招 聘 校 园 招 聘 联 系 我 们 联 系 方 式 在 线 反 馈 0 2 1 5 0 8 8 0 3 2 8 （ 9 : 0 0 1 8 : 0 0 周 一 到 周 五 ） 地 址 ： 北 京 经 济 开 发 区 经 海 三 路 1 1 8 号 院 1 号 楼 一 层 东 侧 关 注 我 们 C o p y r i g h t © 1 9 9 5 2 0 2 3 新 毅 东 ( 北 京 ) 科 技 有 限 公 司 京 I C P 备 2 0 2 4 0 8 8 0 1 0 号 技 术 支 持 ： 深 圳 网 站 建 设

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